รายงาน Engineering Ceramic Co.,(EC © ™):
ประกาศโดยคณะกรรมการพัฒนาและปฏิรูปแห่งชาติ (NDRC) ในงานแถลงข่าวเมื่อวันจันทร์ จีนได้จัดสรรเงิน 200 พันล้านหยวน (28 พันล้านดอลลาร์) สำหรับโครงการลงทุนโดยรัฐบาลท้องถิ่นในปีนี้ เนื่องจากสัญญาว่าจะบรรลุเป้าหมายการเติบโตทางเศรษฐกิจที่ทะเยอทะยานของตนเอง
โครงการเหล่านั้นรวมถึงอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เช่นการขัดเงาด้วยเคมี (CMP) ในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ พื้นผิวชิปจะต้องมีความเรียบสูงเพื่อให้แน่ใจว่าวงจรทำงานได้ตามปกติ การขัดเงาเชิงกลด้วยเคมีเป็นกระบวนการสำคัญในการบรรลุเป้าหมายนี้ซีเรียมออกไซด์กลายเป็นสารกัดกร่อนที่สำคัญในสารละลาย CMP เนื่องจากมีคุณสมบัติทางกายภาพและเคมีที่เป็นเอกลักษณ์ การกระจายตัวของนาโนซีเรียมออกไซด์มีการเกิดออกซิเดชันอย่างแรงกับเวเฟอร์ซิลิคอน และสามารถสร้างชั้นออกไซด์บางมากบนพื้นผิวของเวเฟอร์ซิลิคอนได้ สิ่งนี้ไม่เพียงเอื้อต่อการปรับปรุงประสิทธิภาพการขัดเงาเท่านั้น แต่ยังช่วยให้เวเฟอร์ซิลิคอนได้รับความหยาบของพื้นผิวที่ต่ำมาก และทำให้พื้นผิวของผลิตภัณฑ์สว่างและทำให้เกิดเอฟเฟกต์กระจก
เมื่อเปรียบเทียบกับวัสดุขัดถูอื่นๆ ที่ใช้กันทั่วไป Engineering Ceramic Co.,(EC © ™) ผลิตผงซีเรียมออกไซด์แบบแยกส่วนซึ่งมีเอฟเฟกต์การขัดเงาได้ดีกว่า สามารถกำจัดอนุภาคเล็กๆ สิ่งเจือปน และชิ้นส่วนที่ไม่สม่ำเสมอบนพื้นผิวของแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนได้อย่างมีประสิทธิภาพ ปรับปรุงความเรียบและความบริสุทธิ์ของแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน และสร้างความร้อนและสารเคมีตกค้างน้อยลงในระหว่างกระบวนการขัดเงา และมีความเสียหายต่อวัสดุเซมิคอนดักเตอร์น้อยลง
สูตรทางเคมี: CeO2
มวลโมเลกุล: 172.115 ก./โมล
ลักษณะที่ปรากฏ: ของแข็งสีขาวหรือสีเหลืองอ่อน ดูดความชื้นได้เล็กน้อย
ความหนาแน่น: 7.215 ก./ซม.3
จุดหลอมเหลว: 2,400 °C (4,350 °F; 2,670 K)
จุดเดือด: 3,500 °C (6,330 °F; 3,770 K)
ความสามารถในการละลายน้ำ: ไม่ละลายน้ำ
ความไวต่อแม่เหล็ก (χ): +26.0·10−6 cm3/mol
โครงสร้างคริสตัล: ลูกบาศก์ (ฟลูออไรต์)
แถลงการณ์: บทความ/ข่าว/วิดีโอมาจากอินเทอร์เน็ต เว็บไซต์ของเราพิมพ์ซ้ำเพื่อวัตถุประสงค์ในการแบ่งปัน ลิขสิทธิ์ของบทความ/ข่าว/วิดีโอที่พิมพ์ซ้ำเป็นของผู้เขียนต้นฉบับหรือบัญชีอย่างเป็นทางการดั้งเดิม หากมีการละเมิดใด ๆ ที่เกี่ยวข้อง โปรดแจ้งให้เราทราบทันเวลา แล้วเราจะตรวจสอบและลบออก
